真空鍍膜機主要指一類需要專門在較高真空度下進(jìn)行鍍膜的高精密設(shè)備，其中鍍膜工藝具體包括真空電阻加熱蒸發(fā)、電子槍加熱蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積、離子束濺射等多種，但主要還是分為 蒸發(fā)沉積鍍膜 和 濺射沉積鍍膜 兩種。
需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。
對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。
我司自主研發(fā)的系列鍍膜機適用于在玻璃、樹脂、陶瓷、金屬等各類材質(zhì)表面鍍制AR膜、硬質(zhì)膜、濾光膜、高反膜等各類薄膜，具有高生產(chǎn)效率、高穩(wěn)定性、高重復(fù)性的特點，適合大批量連續(xù)作業(yè)的需求。
負(fù)責(zé)產(chǎn)品研發(fā)及生產(chǎn)的總工程師，來自日本頂級鍍膜設(shè)備制造企業(yè)，擁有多年各類全自動光學(xué)真空鍍膜設(shè)備的開發(fā)及制造經(jīng)驗。全系列產(chǎn)品在南陽工廠完成整體生產(chǎn)及出廠調(diào)試，與國外同類產(chǎn)品相比，具有貼近用戶需求、性價比高、售后服務(wù)及時等明顯優(yōu)勢。
